中國新創璞璘奈米壓印光子晶片量產 成本砍 90%

中國新創璞璘科技（Prinano）宣布，已利用非傳統微影設備技術，在 8 吋矽晶圓上完成光子晶片的量產驗證，且成本較傳統工藝大幅降低 90%。這項突破標誌中國在繞過西方半導體設備封鎖的努力上邁出重要一步，特別在光子晶片這個與 AI 互連、5G/6G 通訊、量子運算密切相關的關鍵技術領域。

過去三年，美國對中國半導體業的出口管制持續收緊，包含對 ASML 高階曝光機（EUV 與部分 DUV）的出口禁令。這項管制使中國在製造 7 奈米以下先進邏輯晶片上面對巨大挑戰。然而光子晶片（用於光通訊、光運算、感測等應用）的製造特性與傳統邏輯晶片不同——光子元件尺寸通常較大（微米至數百奈米），不一定需要最先進的 EUV 或 DUV 設備，反而可運用如奈米壓印（nanoimprint lithography, NIL）等非傳統技術。

奈米壓印技術的核心原理是運用預製的「模板」（template）在塗有光阻的晶圓上機械壓印出所需圖案，類似印章的概念。相較於 DUV 與 EUV 等需要昂貴光學系統的傳統微影技術，奈米壓印的設備成本可能僅為傳統技術的 10-20%。璞璘科技標榜的「成本砍 90%」很可能源自設備折舊、光阻使用量、製程步驟簡化等多重因素的綜合效果。

從產業面看，這項突破對全球半導體與光子晶片市場帶來幾個重要訊號。第一，中國在繞過西方技術封鎖的努力上取得實質進展，光子晶片可能成為中國半導體業的突破口；第二，奈米壓印技術可能在光子晶片、新興記憶體、生物感測等特定應用領域成為主流；第三，全球光子晶片市場規模預估在 AI 浪潮帶動下從目前的數十億美元擴張至 2030 年的數百億美元級別，中國若能在這個領域取得領先，將獲得新興市場的優先布局機會。

對全球半導體業者而言，璞璘的突破是值得關注的技術進展。雖然光子晶片市場規模仍遠小於傳統邏輯與記憶體晶片，但其在 AI 互連（CPO）、量子運算等下世代應用中的戰略重要性不可忽視。能否在 2027 至 2030 年間真正規模化量產並建立國際客戶基礎，將決定中國光子晶片業能否真正改寫全球半導體製造版圖。